シリーズの概要
しがいせんレーザマーキングマシン(半導体端面ポンプレーザマーキングマシン)はレーザマーキングマシンのシリーズ製品に属しているが、355 nmの紫外レーザを用いて開発されたもので、このマシンは3次キャビティ内周波数逓倍を採用している紫外レーザーは焦点スポットが極めて小さく、加工熱影響領域が小さいため、超微細マーキング、特殊材料マーキングを行うことができ、マーキング効果に対してより高い要求がある顧客の第一選択製品である。紫外レーザーは銅の材質のほか、加工に適した材質がより広い。ビーム品質が良いだけでなく、焦点スポットが小さく、超微細マーカーを実現することができる、適用範囲はさらに広く、熱影響領域は極めて小さく、熱効果が発生せず、材料の焦げ問題が発生しない、標識速度が速く、効率が高い、機械全体の性能が安定しており、体積が小さく、消費電力が低いなどの利点がある。
製品の利点
超微細マーキング、特殊材料マーキング
355 nmの紫外レーザを用いて開発され、本機は3次キャビティ内周波数逓倍紫外レーザを用いて、集束スポットが極めて小さいため、主に超微細マーキング、彫刻に用いられ、特に食品、医薬包装材料のマーキング、微孔加工、ガラス材料の高速分割及びシリコンウエハの複雑なパターン切断などの応用分野に適しているため、材料の機械的変形を大幅に低減でき、加工熱の影響が小さい。 |
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紫外レーザ配置が高い瑞標紫外レーザマーキングマシンのすべての部品を協力するサプライヤーは、関連業界の世界トップクラスの技術を持っており、一流の部品は極めて高いマーキング精度と速度を保証し、性能が安定して長期的に働くことができ、例えば:Qスイッチ:英国谷奇、ポンプ源:米国恩耐、結晶:福晶……
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マーキング速度が速く、効率が高い同じ時間内に加工量が明らかに向上し、ユーザーの投資収益率が向上し、彫刻速度が≤12000mm/s |
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より安定したパフォーマンス採掘レーザによって設計された非常に小型で柔軟で、構造がコンパクトで、体積が小さい.光ファイバの表面積/たいせきひが高い,放熱効果が高いを選択し、水冷システム,安定した信頼性,劣悪な環境で働くことができる,例えば、高衝撃、高振動、高温度、ほこりのある条件下で正常に運転する |
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劣悪な環境への対応 一体化設計方式を採用し、構造がコンパクトで、体積が小さい.光ファイバの表面積/たいせきひが高い,放熱効果が高い,採用水冷システム,安定した信頼性,,劣悪な環境で働くことができる,例えば、高衝撃、高振動、高温度、ほこりのある条件下で正常に運転する
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サンプル展示
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携帯充電器のマーキング効果 | 携帯電話イヤホンのマーキング効果 | 携帯充電器のマーキング効果 |
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クリスタルガラスレーザーラジウム彫刻効果 |
アプリケーション業界
しがいせんレーザマーキングマシン超微細加工に特に適したハイエンド市場、例えば化粧品、薬品、食品及びその他の高分子材料の包装瓶の表面マーキング。効果が細かく、マークがはっきりしており、インクジェットコードより優れており、汚染がなく、マークは永久的に拭くことができない。フレキシブルpcb板のマーキング、スクライブ、シリコンウエハの微孔、盲孔加工、LCD液晶ガラスのQRコードのマーキング、ガラス器具の表面の穴あけ、金属表面のめっきマーキング、プラスチックボタン、電子部品、贈り物、通信器材、建築材料など。
(以上はしがいせんレーザマーキングマシンさまざまな業界のアプリケーションソリューション)